| 产品特性：模块化 | 是否进口：否 | 产地：日本 |
| 类型：金相显微镜 | 品牌：NIKON/尼康 | 型号：LV150N，LV150NA |
| 目镜放大倍数：150x | 物镜放大倍数：150x | 仪器放大倍数：150x |
| 重量：10000g | 适用范围：工业 | 装箱数：1 |
| 加工定制：否 | 规格：标准品 |
Nikon反射式正置工业显微镜LV150N/LV150NA/LV150NL
日本Nikon生产设计的ECLIPSE LV系列显微镜包含尼康LV150N/LV150NA工业显微镜。其中，LV150N和LV150NA这两种反射式尼康工业显微镜，都具备模块化结构，可满足不同工业领域的工业显微镜应用需求。
ECLIPSE LV系列显微镜采用纯反射照明技术，支持的检测方式有：明场、暗场、微分干涉、荧光、偏光和双光束干涉，可以搭载数码相机，对常用的半导体、集成电路及其它各种材料进行检测。LV150N Nikon正置工业显微镜和LV150NA Nikon正置工业显微镜都属于手动显微镜。在Nikon手动显微镜中，智能物镜转换器LV-NU5I在连接物镜信号转接器 LV-INAD后，LV150N Nikon工业正置显微镜支持NIS-Elements软件识别当前使用物镜，进行物镜转换时，软件中的倍率也会自动进行效正；而LV150NA Nikon工业正置显微镜不仅支持 NIS-Elements 软件对物镜的自动识别，还支持由软件操控的物镜转换。
Nikon工业正置显微镜可兼容的观察方法：
型号 | 明场 | 暗场 | 微分干涉 | 荧光 | 偏光 | 双光束干涉 | |
LV150N工业显微镜 LV150NA工业显微镜 | 反射 | √ | √ | √ | √ | √ | √ |
反射（LED） | √ | √ | √ | — | ***简易偏光观察 | — | |
LV150NL 工业显微镜 | 反射 | √ | — | √ | — | √ | √ |
*更具观察方式选择合适的物镜（LV150NL工业显微镜上海***内有，但全球***上没有显示其规格参数，其能兼容的观察方法少，适用范围相对比较窄，本文不另外说明。）
在明场的环境下对半导体（IC晶片）进行观察时，ECLIPSE LV系列尼康LV150N/LV150NA工业显微镜物镜到照明系统拥有很好的杂光消除结构，能提供具备高对比度的明亮图像；而在暗场环境下，物镜照明系统中带有尼康独特的理念设计，支持明亮的暗场观察，并能灵敏检测出样品上的微小结构和缺陷。
明场、暗场效果对比图
DIC棱镜插片有标准型和高对比度型两种，可根据液晶样品观察需要进行选择。此外，微分干涉（DIC）还可观察到模具表面极细的加工纹理（明场所看不到的细微高度差表现）
对有机EL、有焊装的印刷电路板等样品，荧光观察可以发挥其独特的效果。
明场、荧光反射效果对比图
对带有双折射特性的样品，如方解石、液晶、含有内应力的塑料有机玻璃等，ECLIPSE LV系列尼康工业显微镜能十分***进行观察。
明场、偏光效果对比图
ECLIPSE LV系列尼康工业显微镜可用于Michelson（TI）和Mirau（DI）的双光束干涉测量。与测量目镜结合使用，该Nikon正置工业显微镜还能在不接触样品的情况下检测和测量微小的水平差异。
ECLIPSE LV系列显微镜可从3种不同类型的载物台进行选择：
LV-S32 3x2载物台：行程75 x 50 mm，带玻璃板，可配备LV-S32SPL ESD板
LV-S6 6x6载物台：行程150 x 150 mm，可配备LV-S6WH晶片夹/LV-S6PL ESD板
LV-SPR P旋转载物台
集成用于显微镜的Digital Sight相机（DS-Ri2或DS-Fi3）有专门的图像处理与控制软件软件NIS-Elements与尼康LV150N/LV150NA工业显微镜配套（显微镜相机 + NIS-Element软件）。
正置Nikon工业显微镜规格书：
