深圳维尔克斯光电有限公司
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日本NEOARK代理——维尔克斯光电提供磁光克尔效应测量系统 磁光测试仪
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日本NEOARK代理——维尔克斯光电提供磁光克尔效应测量系统 磁光测试仪

日本NEOARK代理——维尔克斯光电提供磁光克尔效应测量系统磁光测试仪,可以测量磁滞回线测量:极性克尔效应(垂直磁化)纵向克尔效应(平面磁化)克尔效应测量显微镜低温法拉第效应测量

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    广东 深圳 龙岗区 平湖街道恒路E时代412
品牌:NEOARK是否进口:否产地:日本
型号:Magneto-OpticalEffect重量:30KgKg加工定制:是
规格:μ-KerrEffectMeasurement主要下游平台:独立站主要销售地区:东北亚
有可授权的自有品牌:是尺寸:1000mm类型:磁光效应测量
适用范围:测量磁感应线法拉第效应

日本NEOARK代理——维尔克斯光电提供磁光克尔效应测量系统磁光测试仪。维尔克斯光电***代理NEOARK磁光测量系统,磁光克尔效应测量仪,Magneto-OpticalProduct。磁光测量主要包括磁光克尔效应测量(μ-KerrEffect)、磁滞回线测量和法拉第效应测量。

日本NEOARK公司成立于1976年,是一家***从事***仪器仪表、激光器的高科技公司,在磁光测试领域拥有雄厚的技术实力。Neoark公司产品产品范围包括:激光光源,激光测量(激光扫描仪、激光光谱分析仪、功率计、激光探测器),激光打标,位移测量仪,振动仪,激光微处理器,激光直接光刻系统,磁光/偏振特性测量等。其中以碘稳频激光器和磁光测量仪器***为出名。维尔克斯光电***代理NEOARK磁光测量仪器在中国市场的销售。

磁光效应测量系统Magneto-OpticalEffectMeasurementSystem

关键词:磁光克尔效应

磁滞回线测量:

极性克尔效应(垂直磁化)

纵向克尔效应(平面磁化)

克尔效应测量显微镜

低温

法拉第效应测量

垂直磁各向异性分析(磁场应用的角度依赖性)

在平面磁各向异性分析(磁场应用的角度依赖性)

在平面的倾斜角度评价



磁域观测显微镜(Kerr显微镜,磁光克尔效应显微镜)

应用:显微镜磁域观察

极克尔效应(垂直磁化)

纵向克尔效应(平面磁化)

低温

磁光效应测量系统

日本NEOARK代理——维尔克斯光电提供磁光克尔效应测量系统磁光测试仪

关键词:磁滞回线测量

晶圆

磁记忆

硬盘磁头

磁传感器

硬盘

垂直磁记录介质

软衬层(SUL)

头装置

热辅助磁记录(HAMR)硬盘媒体

μ-KerrEffectMeasurementAndMagneticDomainObservationSystem

BH-PI7892Series

μ-KerrEffectMeasurementSystem

BH-PI920Series

Features

MicroscopicLocalMagneticPropertyAnalysisbasedon

bothPolarandLongitudinalKerrEffect(Notsimultaneousmeasurement)

Suitableforsensitiveanalys***fμmsizemagneticpatternandmagneticthinfilm

Specification

MeasurementSubject:Magneto-OpticalKerrEffect

(PolarandLongitudinalKerrEffect)

MainFunction:KerrLoopMeasurement

LightSource:DiodeLaser

ProbeLightSpot:φ2-5μm

GeneratingMagneticField:Max.±10kOe(1T)

*Option:In-PlaneElectromagnet

μ-KerrEffectMeasurementandMagneticDomainObservationSystem

BH-PI7892Series

μ-KerrEffectMeasurementandMagneticDomainObservationSystem

BH-PI7892Series

LongitudinalKerrEffectMeasurementSystem

BH-618Series

FaradayEffectMeasurementSystem

BH-620Series

PerpendicularMagneticAn***tropyAnalysis

Features

Magneto-OpticalKerrEffectwithmotorizedrotatingElectromagnet

forMagneticFieldAppliedAngleDependenceAnalysis

In-PlaneMagneticAn***tropy&SkewAngleAnalysis

*MagneticFieldApplicationAngleDependenceAnalysis

(MagneticFieldApplicationDirection:In-PlaneDirection)

“ForWafer”PerpendicularMagneticLayerEvaluationSystem

Model:BH-810CPC25WF12

Features

SpeciallyDesignedforevaluationofPerpendicularMagneticLayerof12InchWafer

Specification

MainFunction:KerrLoopMeasurementandMappingMeasurement

(PolarKerrEffect)

LightSource:DiodeLaser

ProbeLightSpotSize:φ1mm(Typ.)

GeneratingMagneticField:Max.±25Oe(2.5T)

“ForWafer”In-PlaneMagneticLayerEvaluationSystem

Model:BH-618SK-12

“ForHardDisc”PerpendicularMagneticRecordingLayerEvaluationSystem

Model:BH-810CPC

“ForHardDisc”SoftUnderLayer(SUL)EvaluationSystem

Model:BH-618HS

Features:SpeciallyDesignedforevaluationofSoftUnderLayer(SUL)ofboth2.5inch

and3.5InchHardDisk

MagneticDomainObservationMicroscope

BH-786Series

Features

MagneticDomainObservationMicroscope(KerrMicroscope)withvariousoptional

magnificationandmagneticfield

Specification

ObservationSubject:Magneto-OpticalKerrEffect

(PolarandLongitudinalKerrEffect)

MainFunction:CCDCameraObservationandImageCapturing

LightSource:MercuryLamp

ObservationResolution:1μm(Typ.)withx50ObjectiveLens

ObservationArea:100x70μmwithx50ObjectiveLens

GeneratingMagneticField:>±10kOe(1T)

*Option:In-PlaneElectromagnetandOthers

日本NEOARK代理——维尔克斯光电提供磁光克尔效应测量系统磁光测试仪

LowTemperatureMagneticDomainObservationMicroscope

BH-7850Series


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